대한치주과학회(회장 허익·이하 치주학회)가 학회 공식 학술지인 JPIS(Journal of Periodontal & Implant Science)의 2020년 논문인용지수(Impact Factor, IF)가 2019년 1.472에서 2.614로 상승했다고 밝혔다.

JPIS는 전 세계의 치과계 SCIE 저널 91개 중 42위를 차지해 지난해에 이어 상위 50%(Q2) 그룹에 속했다.

클래리베이트사가 지난 6월 30일 발표한 2020년 IF 발표 결과에 따르면, JPIS는 2014년 SCIE로 편입된 이후 처음으로 IF 2.0을 넘었다. 특히 JPIS에서 인용된 결과(self-citation)를 제외하더라도 2.543이라는 높은 점수를 기록해, 타저널에서 JPIS의 논문을 많이 인용한 것으로 나타났다.

JPIS는 1971년 창간해 2010년 영문학술지인 JPIS로 바꾼 후, 2014년 SCIE에 편입됐으며, 최근 5년간 IF가 지속 상승해, 우수한 성과를 보이고 있다.

허익 회장은 “학회창립 61주년을 맞아 공식 학회지가 국제적으로 인정받아 매우 기쁘고, 학회지 발간에 힘써준 편집장, 편집이사, 편집실행이사, 편집위원들의 노고에 감사하다“고 말했다.

신승윤 편집장은 “SCIE 등재 7년만에 2점대 이상의 IF를 기록한 것은 매우 고무적이지만, 치과계 학술지 순위가 오히려 약간 하락한 것은 앞으로 상위 25%내로 진입하기 위한 노력이 필요함을 뜻한다"며 "논문의 질적 향상과 함께 출판윤리 및 국제요소 강화를 위해 보다 노력하겠다”고 밝혔다.

현재 JPIS의 발행은 신승윤 편집장(경희대), 박준범 편집이사(서울성모병원), 박신영(서울대)·박정철(단국대)·김용건 편집실행이사(경북대)와 편집위원들이 담당하고 있다.