강충규 원장의 지상강좌
Sinus surgery와 연관된 trouble 극복하기
Sinus graft는 발치 후 일어나는 수직적 골 흡수와 pneumatization에 의해 잔존골의 부족으로 통상적인 임플란트 시술이 힘든 경우 임플란트 시술을 가능하게 하는 유용한 골 이식술이다.
시술의 난이도가 우리를 힘들게도 하지만 수술 중이나 수술 후 발생하는 여러 trouble들은 임플란트 실패의 주요 원인이 되기 때문에 이에 대한 충분한 이해가 필요하다.
sinus surgery와 연관된 trouble은 다음 두 가지로 나누어 생각할 수 있으며 sinus surgery 중 sinus graft에 대해 주로 설명을 하고자 한다.
1. sinus graft 수술중 생기는 trouble
* Sinus membrane perforation
* Intraoperative bleeding
* Displacement of implant into the sinus
* Ridge augmentation을 동반해야하는 경우
2. Sinus graft후 생기는 trouble
* Postoperative swelling & pain
* Maxillary sinusitis
* Failure of osseointegration
sinus surgery의 성공적인 결과를 얻기 위해서는 수술중이나 후에 나타날 수 있는 trouble에 대해 충분한 이해가 필요하며 이러한 trouble을 극복하고 해결하기 위한 고려사항들을 여러 임상증례를 통해 함께 생각해 보고 sinus surgery와 관련된 trouble 중에서도 sinus membrane perforation 과 maxillary sinusitis에 대해 주로 서술하고자 한다.
1) sinus graft 수술 중 생기는 trouble
* Sinus membrane perforation
빈도는 7~35%, 14~56%로 보고 되고 있기 때문에 아무리 적게 잡아도 10case중 1case에서는 발생한다고 생각하면 천공 발생 시 그 대처법에 대해 충분히 숙지하는 것이 필요하다.
sinus 수술 중 천공이 자주 발생하는 이유는 우리가 다 알고 있듯이 sinus membrane이 1mm 이하의 (평균 0.3~ 0.8mm) 얇은 막이기 때문이며 그 두께는 gingiva 두께와 상호 연관성이 있다고 보고되므로 thin gingiva 환자에서 막 두께가 더 얇을 것으로 생각해 보다 주의 깊게 수술에 임해야할 것이다.
천공은 수술 중 window osteotomy중이나 막 거상 중, 식립을 위한 drilling중 또는 fixture 식립 중 발생하게 되는데 막 거상 중에는 기구의 접근이 어려운 anterior side에서 많이 발생하게 된다. 또한 천공이 일어나기 쉬운 risk factor는 다음과 같은 것들이 있다.
Risk factor of sinus membrane perforation
1. Anatomical difficulty
presence of septum
thin sinus membrane
sinus pathology
too thick lateral wall
2, 술자의 skill 부족
부적절한 window design
즉 다음과 같은 window design의 원칙이 지켜지지 않고 window의 margin이 sinus wall과 멀리 떨어진 경우 막을 박리하는 과정에서 천공이 일어나기 쉬우며 membrane lift 기구를 사용하기 위해서는 window size가 최소 5mm 이상의 직경을 가져야함을 기억해야 한다.(사진1)
또한 한국인 cadaver에서 maxillary sinus의 buccofacial wall 두께를 잰 논문에서 그 수치가 평균 1.2~1.9mm 로 나타났으며 일반적으로는 0.5~4mm까지 고려해야하고 이는 수술전 CT 촬영으로 그 두께를 미리 알아보는 것이 도움이 될 것이다.
다음으로 임상사례(Case 1)를 통해 천공이 발생했을 때의 처치에 대해 알아보겠다.
먼저 천공부위가 window margin상에 놓이지 않도록 window를 1.5~2mm 정도 연장한 후(사진2) 조심스럽게 막 박리를 진행해서 천공부위를 isolation 시켜야한다. (사진3). 그 후 흡수성막을 수화시킨 후 천공부위를 충분히 덮어준다(사진4).
이렇게 함으로써 sinus 안으로 graft material이 들어가는 것을 막아주고 sinus membrane healing을 유도한다. 그 후 정상적인 sinus graft 술식을 진행한다(사진5).
이 증례에서는 임플란트 식립 후 골 결손 부위에 vertical augmentation을 함께 시행했고(사진6,7) 천공부위에 사용하고 남은 흡수성막을 덮어준 후(사진8) 봉합했으며 3달 후 이차 수술시 골 형성이 잘 이뤄진 것을 확인했고(사진 9) 통상적인 방법으로 보철을 완성했다(사진10).
Window design ■ Anterior margin: 1~2mm to the anterior wall of sinus according to anterior implant placement
■ Inferior margin: 1~2mm above sinus floor
■ Posterior margin: according to posterior implant placement
■ Superior margin: about 5~7mm above inferior margin
<34면에 계속>