디지털 덴티스트리 선도기업 디오와 Takahiro Ogawa 교수(미국 UCLA대)가 공동 연구한 ‘DIO VUV Implant’가 누적 판매 90만 개를 돌파하며 개원가의 큰 관심을 받고 있다.

디오의 ‘DIO VUV Implant’는 반도체 공정에서 미량의 유기물질을 제거하는 고출력 에너지 UV, VUV(Vacuum UV) 광원을 사용해 임플란트 표면을 초친수성으로 개질시키는 과정을 거치며 360° 원통형 램프를 통해 임플란트 나사산까지 빈틈없이 VUV를 조사, 초친수성 효과를 극대화한다는 특징이 있다.

최근(6월 28일 기준) 누적 판매 90만 개를 돌파하는 등 돌풍을 일으키고 있으며 UV 광에너지 매개 활성화 연구의 권위자인 Takahiro Ogawa 교수(미국 UCLA대)와 디오가 공동으로 진행한 VUV 조사 관련 실험 논문 역시 큰 주목을 받고 있다. 

해당 실험에서는 디오의 UV 조사기 ‘UV Activator 2’를 포함, 4종류의 UV 조사기를 이용, 티타늄 및 치과용 재료 표면에 발생하는 유기물에 대한 UV 조사 이후의 표면개질 현상, 유기물 분해 효과, 임플란트 표면과 혈액 사이에 발생하는 역학관계를 조사해 비교 분석했다. 광활성화에 의해 분해되는 메틸렌 블루를 유기물 모형으로 채택해 각각 UVC, HUVC, PUV, VUV 4가지 종류로 60초간 UV 조사를 실시하는 방식으로 진행됐다.

그 결과 VUV는 메틸렌 블루 분해 비율이 90% 이상, UVC는 25% 이하, HUVC와 PUV는 75% 이하의 값을 보였다.

디오 측은 실험 결과를 통해 VUV 투과율을 극대화하기 위한 특허받은 석영 앰플과 VUV 조사 시스템인 ‘DIO VUV Implant’가 유기물 제거와 함께 초친수성을 위한 표면개질이 가장 잘 이루어진다는 사실을 확인했다고 설명했다. 또 회사 측은 Ogawa 교수의 논문 자료에 근거해 ‘DIO VUV Implant’가 일반 임플란트에 비해 골융합 속도가 더 빠르다는 사실을 알 수 있었다고 덧붙였다.

박상오 디오 임플란트 개발팀 이사는 “글로벌 시장에서 많은 사랑을 받고 있는 ‘DIO VUV Implant’가 Ogawa 교수의 논문을 통해 우수성을 다시 한번 검증하고 유저들에게 기술력에 대한 확신을 줬다”며 “앞으로 100만을 넘어 200만, 300만까지 글로벌 누적 판매 기록을 달성할 수 있도록 연구 개발에 계속 몰두할 것”이라고 밝혔다.